新規(guī)今日生效 ASML：年底前可以向中國(guó)出貨受限芯片制造設(shè)備

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ASML發(fā)言人表示，盡管出口限制從9月份開(kāi)始實(shí)施，但該公司在年底前獲得了向中國(guó)出口受限芯片制造設(shè)備的許可證。

據(jù)彭博社8月31日?qǐng)?bào)道，美國(guó)限制向中國(guó)出口尖端技術(shù)的努力，損害了ASML的利益，中國(guó)是ASML的第三大市場(chǎng)。美國(guó)政府曾敦促荷蘭政府阻止ASML在沒(méi)有許可證的情況下向中國(guó)出口浸入式DUV光刻機(jī)，新限制于9月1日正式生效。

ASML發(fā)言人表示：“從9月開(kāi)始的四個(gè)月期限是為了讓ASML能夠履行與中國(guó)客戶的合同義務(wù)。但預(yù)計(jì)不會(huì)獲得新出口許可證，從1月份開(kāi)始向中國(guó)出口三款先進(jìn)的浸入式深紫外光刻機(jī)（DUV）。”

據(jù)悉，今年6月末荷蘭發(fā)布新出口管制措施，規(guī)定半導(dǎo)體廠商在出口一些先進(jìn)的深紫外光刻（DUV）系統(tǒng)時(shí)申請(qǐng)出口許可證。知情人士稱，在新規(guī)定生效之前，中國(guó)芯片制造商一直在爭(zhēng)相收購(gòu)重要設(shè)備。海關(guān)數(shù)據(jù)顯示，今年到目前中國(guó)從荷蘭進(jìn)口的此類設(shè)備已經(jīng)超過(guò)了2022年全年的總量。

這些規(guī)定涵蓋了一小部分用于芯片制造工藝的極其先進(jìn)的設(shè)備，包括浸潤(rùn)式深紫外（DUV）光刻和原子層沉積（ALD）設(shè)備。ASML曾表示，其最先進(jìn)的DUV設(shè)備屬于新規(guī)定的范圍，但其主流DUV設(shè)備不屬于新規(guī)定的范圍。自2019年以來(lái)，該公司已被禁止向中國(guó)出口其更先進(jìn)的EUV（極紫外線）光刻機(jī)。

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